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地å€ï¼šæ±èŽžå¸‚é»ƒæ±ŸéŽ®(zhèn)ç››æ¥(yè)è·¯25號148室
在挑é¸åˆé©è‡ªå·±çš„å…‰å¸é¡é 時,å¯ä»¥åƒè€ƒä»¥ä¸‹æ¥é©Ÿï¼šç¢ºå®šé 算。é¡é åƒ¹æ ¼å¾žå¹¾ç™¾å…ƒåˆ°æ•¸(shù)è¬å…ƒä¸ç‰ï¼Œç¢ºå®šé ç®—æ˜¯é¸æ“‡é¡é 的第一æ¥ã€‚確定使用目的。ä¸åŒçš„é¡é é©åˆä¸åŒçš„æ”å½±é¡žåž‹ã€‚æ¯”å¦‚ï¼Œå»£è§’é¡é é©åˆæ™¯è§€å’Œå»ºç‘æ”影,長焦é¡é é©åˆé‡Žç”Ÿå‹•物和體育é‹å‹•æ”影,標準é¡é é©åˆäººåƒå’Œæ—¥å¸¸æ”å½±ã€‚ç¢ºå®šæ‹æ”é¢¨æ ¼ã€‚ä¸åŒçš„é¡é å¯ä»¥ç”¢(chÇŽn)生ä¸åŒçš„視覺效果。比如,大光圈é¡é ...
å…‰å¸é¡ç‰‡æ˜¯èƒ½æ”¹è®Šå…‰çš„å‚³æ’æ–¹å‘,并能改變紫外ã€å¯è¦‹æˆ–紅外光的相å°å…‰èœåˆ†å¸ƒçš„é¡ç‰‡ã€‚åŠ å·¥å…‰å¸é¡ç‰‡çš„åŽŸæ–™æ˜¯ä¸€äº›æ°§åŒ–ç‰©ã€æ°«æ°§åŒ–物ã€ç¡é…¸é¹½å’Œç¢³é…¸é¹½ï¼Œå¹¶æ ¹æ“š(jù)é…æ–¹çš„è¦æ±‚引入磷酸鹽或氟化物。光å¸é¡ç‰‡çš„åŠ å·¥åˆ¶ä½œæµç¨‹ä¸»è¦åŒ…æ‹¬ç†”ç…‰ã€æˆåž‹ã€é€€ç«å’Œæª¢é©—。在熔煉éŽç¨‹ä¸ï¼Œå¯ä»¥é‡‡ç”¨å–®å©å é–“æ‡ç†”ç…‰æ³•æˆ–æ± çª¯é€£çºŒ(xù)ç†”ç…‰æ³•ï¼ŒåŒæ™‚需è¦ä½¿ç”¨æ”ªæ‹Œå™¨æ”ªæ‹Œï¼Œå¹¶åš´æ ¼æŽ§åˆ¶æº«åº¦...
1ã€é¡¯å¾®é¡å…‰å¸é¡ç‰‡å¯ä»¥ç”¨ä½œé¡¯å¾®é¡é¡ç‰‡ï¼Œå¯¦ç¾(xià n)å‰é¢ç‰©åƒçš„å°æ¯”å’Œå°ç„¦ï¼Œä»¥åŠç‰©é«”çš„èšç„¦å’Œæ”¾å¤§ã€‚雙曲é¢é€é¡å¯ä»¥ç”¨ä¾†èšç„¦ï¼ŒæŠŠç‰©é«”å射放大,使細微細胞å¯è¦‹ï¼›çƒé¢åŠæ‹‹ç‰©é¢é¡å¯ä»¥èª¿(dià o)æ•´è¦–å ´ï¼Œåœ¨ç‰¹å®šè¨ç½®ä¸‹å¯¦ç¾(xià n)光線的擴散。2ã€æ”åƒæ©Ÿé€šéŽæ±èŽžå…‰å¸é¡ç‰‡å¯ä»¥å¯¦ç¾(xià n)æ‹æ”物體的影åƒï¼Œè¨±å¤šæ”åƒæ©Ÿé‡‡ç”¨çƒé¢åŠæ‹‹ç‰©é¢ï¼Œå°‡ç‰©é«”的影åƒå射給CMOS或CCDæˆåƒå™¨ï¼Œä»¥...
1.èšç„¦å…‰ç·šï¼›å…‰å¸é¡é èƒ½å¤ èšç„¦å…‰ç·šï¼Œå°‡æ•£å°„的光線轉(zhuÇŽn)化為集ä¸çš„光線。這使得光å¸å„€å™¨èƒ½å¤ æˆåƒã€æ”¾å¤§å’ŒæŽ§åˆ¶å…‰ç·šã€‚2.調(dià o)æ•´å…‰å¸ç„¦é»žä½ç½®ï¼›å…‰å¸é¡é èƒ½å¤ æ”¹è®Šåœ–åƒçš„焦點ä½ç½®ï¼Œä½¿å…¶èƒ½å¤ åœ¨æ›´é æˆ–æ›´è¿‘çš„è·é›¢è™•æˆåƒã€‚這使得光å¸ç³»çµ±(tÇ’ng)æ›´åŠ éˆæ´»ï¼Œèƒ½å¤ 驿‡‰ä¸åŒå ´æ™¯ä¸‹çš„æˆåƒéœ€æ±‚。3. 改善æˆåƒè³ª(zhì)é‡ã€‚å…‰å¸é¡é å» å®¶èƒ½å¤ æ”¹å–„å…‰å¸ã€æˆåƒçš„æ¸…晰度ã€è‰²æ•£å’Œåƒæ•£ç‰...
å…‰å¸é¡ç‰‡æ˜¯ä¸€ç¨®ç”¨äºŽå…‰å¸å„€å™¨ä¸çš„é¡ç‰‡ï¼Œå…·æœ‰é«˜åº¦çš„逿˜Žæ€§ã€ç‰©ç†åŠåŒ–叿€§è³ª(zhì)高度å‡å‹»æ€§åŠç‰¹å®šå’Œå分精確的光å¸å¸¸æ•¸(shù)。它是由高純度硅ã€ç¡¼ã€éˆ‰ã€é‰€ã€é‹…ã€é‰›ã€éŽ‚ã€éˆ£ã€é‹‡ç‰çš„æ°§åŒ–ç‰©æŒ‰ç‰¹å®šé…æ–¹æ··åˆï¼Œåœ¨ç™½é‡‘å©å ä¸é«˜æº«èžåŒ–ï¼Œç”¨è¶…è²æ³¢æ”ªæ‹Œå‡å‹»ï¼ŒåŽ»æ°£æ³¡ï¼Œç„¶åŽç¶“(jÄ«ng)é•·æ™‚é–“ç·©æ…¢åœ°é™æº«ï¼Œä»¥å…玻璃塊產(chÇŽn)生內(nèi)應力。冷å»åŽçš„çŽ»ç’ƒå¡Šï¼Œå¿…é ˆç¶“(jÄ«ng)éŽå…‰å¸å„€å™¨æ¸¬é‡ï¼Œæª¢é©—純度ã€...